Ningbo Zhixing Optical Technology Co., Ltd.
Ningbo Zhixing Optical Technology Co., Ltd.
Νέα

Νέα του κλάδου

Πώς να διαβάσετε το διάγραμμα δοκιμής ανάλυσης USAF του 1951;17 2024-07

Πώς να διαβάσετε το διάγραμμα δοκιμής ανάλυσης USAF του 1951;

Το 1951 USAF (United States Air Force) Resolution Test Chart είναι ένα ζωτικής σημασίας εργαλείο που χρησιμοποιείται στον τομέα της οπτικής και της απεικόνισης για την αξιολόγηση της ικανότητας ανάλυσης διαφόρων συστημάτων απεικόνισης, συμπεριλαμβανομένων καμερών, μικροσκοπίων, τηλεσκοπίων, ακόμη και του ανθρώπινου ματιού. Αυτό το διάγραμμα, που σχεδιάστηκε από την USAF το 1951, έχει γίνει ένα βιομηχανικό πρότυπο για τη μέτρηση της χωρικής ανάλυσης και είναι ευρέως αναγνωρισμένο για την ακρίβεια και την ευελιξία του. Σε αυτό το άρθρο, θα εμβαθύνουμε στις περιπλοκές της ανάγνωσης και της ερμηνείας του χάρτη δοκιμών ανάλυσης της USAF του 1951.
Ο απαραίτητος ρόλος του πίνακα βαθμονόμησης μηχανικής όρασης17 2024-07

Ο απαραίτητος ρόλος του πίνακα βαθμονόμησης μηχανικής όρασης

Στο συνεχώς εξελισσόμενο τοπίο της σύγχρονης επιστήμης και τεχνολογίας, η ακρίβεια και η ακρίβεια έχουν γίνει πρωταρχικοί παράγοντες που οδηγούν την καινοτομία σε διάφορους κλάδους. Ένα κρίσιμο εργαλείο που διασφαλίζει την τήρηση αυτών των προτύπων είναι η πλακέτα βαθμονόμησης μηχανικής όρασης. Αυτός ο εξειδικευμένος πίνακας μοτίβων χρησιμεύει ως ακρογωνιαίος λίθος για τη βαθμονόμηση και τη μέτρηση μιας σειράς εξοπλισμού, συμπεριλαμβανομένων καμερών, βιντεοκάμερων, αποστάσεων λέιζερ, ραντάρ και άλλων.
Ποια είναι η χρήση του οπτικού στόχου;16 2024-07

Ποια είναι η χρήση του οπτικού στόχου;

Στον τομέα της οπτικής, η ακρίβεια και η ακρίβεια είναι πρωταρχικής σημασίας. Είτε είναι η διασφάλιση της ευκρινούς εστίασης του φακού ενός τηλεσκοπίου, η βαθμονόμηση ενός λέιζερ για ακριβή κοπή ή η καταγραφή περίπλοκων λεπτομερειών στην ιατρική απεικόνιση, κάθε πτυχή της απόδοσης ενός οπτικού συστήματος βασίζεται σε σχολαστικές μετρήσεις και ρυθμίσεις. Εδώ μπαίνει στο παιχνίδι ο οπτικός στόχος, ένα ευέλικτο και απαραίτητο εργαλείο.
Ποια είναι η διαφορά μεταξύ Photomask και Wafer;16 2024-07

Ποια είναι η διαφορά μεταξύ Photomask και Wafer;

Στον περίπλοκο κόσμο της κατασκευής μικροηλεκτρονικών, οι φωτομάσκες και οι γκοφρέτες παίζουν καθοριστικό ρόλο, ωστόσο εξυπηρετούν ξεχωριστούς σκοπούς στην ευρύτερη παραγωγική διαδικασία. Η κατανόηση των θεμελιωδών διαφορών μεταξύ αυτών των δύο κρίσιμων στοιχείων είναι απαραίτητη για την εκτίμηση της πολυπλοκότητας της σύγχρονης κατασκευής ημιαγωγών.
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept