Νέα

Οι φωτομάσκες με φιλμ διαδραματίζουν ζωτικό ρόλο στη σύγχρονη οπτική παραγωγή, τη διαμόρφωση ημιαγωγών, την ανάπτυξη PCB και διάφορες διαδικασίες μικροκατασκευής. Λειτουργούν ως φορείς μοτίβων υψηλής ακρίβειας, επιτρέποντας ακριβή απεικόνιση με βάση το φως ή χάραξη σε διαφορετικά υποστρώματα. Σε αυτό το άρθρο, θα εξηγήσω πώς λειτουργεί μια Φωτομάσκα φιλμ, γιατί είναι σημαντική και ποιες τεχνικές παράμετροι καθιστούν αξιόπιστες τις λύσεις μας από τη Ningbo Zhixing Optical Technology Co., Ltd. Η σαφής δομή, η ευανάγνωστη γλώσσα και το επαγγελματικό βάθος διατηρούνται παντού.

Στον ταχέως εξελισσόμενο τομέα της οπτικής μετρολογίας, τα CGH Cylinder Nulls έχουν αναδειχθεί ως απαραίτητα εργαλεία για δοκιμές ακριβείας και βαθμονόμηση κυλινδρικών και ασφαιρικών επιφανειών. Αντικαθιστώντας σύνθετες μηχανικές ρυθμίσεις με ολογραφία που δημιουργείται από υπολογιστή (CGH), αυτοί οι διορθωτές μηδενισμού επιτρέπουν την εξαιρετικά ακριβή επαλήθευση της επιφάνειας σε οπτικά συστήματα υψηλής τεχνολογίας, όπως τηλεσκόπια, φακούς κάμερας και όργανα επιθεώρησης ημιαγωγών. Αυτό το άρθρο διερευνά πώς, γιατί και τι κάνει τα CGH Cylinder Nulls ζωτικής σημασίας για βιομηχανίες που αναζητούν ακρίβεια μικρότερου του μικρού και οικονομικά αποδοτικές λύσεις δοκιμών, ενώ υπογραμμίζει επίσης την επαγγελματική αριστεία της Ningbo Zhixing Optical Technology Co., Ltd., κορυφαίου κατασκευαστή στον τομέα αυτό.

Οι CGH Null Correctors (Computer-Generated Hologram Null Correctors) είναι προηγμένες συσκευές οπτικών δοκιμών που χρησιμοποιούνται για τη μέτρηση και τη διόρθωση ανωμαλιών σε οπτικά συστήματα ακριβείας, όπως ασφαιρικοί και ελεύθερης μορφής φακοί ή καθρέφτες.

Το Film Photomask είναι μια κύρια πλάκα που χρησιμοποιείται για την κατασκευή πλακιδίων ολοκληρωμένου κυκλώματος, η οποία φέρει σχετικές πληροφορίες για τη διάταξη σχεδίασης ολοκληρωμένων κυκλωμάτων. Στη διαδικασία κατασκευής γκοφρέτας, το μοτίβο στη Φωτομάσκα Φιλμ μεταφέρεται στο εκτεθειμένο υλικό υποστρώματος μέσω μιας σειράς διεργασιών όπως η επίστρωση φωτοανθεκτικού, η έκθεση και η ανάπτυξη για την επίτευξη μεταφοράς σχεδίου.

Μια Photomask, επίσης γνωστή ως μάσκα φωτός, φωτομάσκα ή μάσκα φωτολιθογραφίας, είναι ένα κύριο μοτίβο που χρησιμοποιείται στη διαδικασία φωτολιθογραφίας στην κατασκευή μικροηλεκτρονικών. Ακολουθεί μια αναλυτική εισαγωγή σε αυτό:

Όταν ανταποκρίνεται στην προσαρμογή των τιμολογίων από τις Ηνωμένες Πολιτείες, η βιομηχανία οπτικών πρέπει να υιοθετήσει πολυδιάστατα στρατηγικά μέτρα για να εξισορροπήσει την πίεση του κόστους, να διατηρήσει το μερίδιο αγοράς και να προωθήσει τη βιομηχανική αναβάθμιση. Ακολουθεί η συγκεκριμένη ανάλυση στρατηγικής: